Anello di messa a fuoco in carburo di silicio materiale ceramico
Materiale ceramico dell’anello di focalizzazione del carburo di silicio Con lo sviluppo della tecnologia dei semiconduttori, l’incisione al plasma è diventata gradualmente una tecnologia ampiamente utilizzata nei processi di produzione dei semiconduttori. Il plasma generato dall’incisione al plasma è altamente corrosivo e causerà anche una grave corrosione della cavità della camera di processo e dei



